鄧輝博士，南方科技大學(xué)機(jī)械與能源工程系長聘副教授，博士生導(dǎo)師。鄧輝博士2017年加入南方科技大學(xué)后建立"等離子體先進(jìn)制造實驗室-APMLab"。本團(tuán)隊致力于創(chuàng)新性超精密制造技術(shù)的研究，為制造技術(shù)向原子精度的突破貢獻(xiàn)力量。
實驗室研究聚焦于兩點(diǎn)：其一、以原子尺度物理化學(xué)反應(yīng)為核心技術(shù)手段，開發(fā)非應(yīng)力式原子級材料去除新方法，實現(xiàn)微觀尺度的原子級精度制造；其二、以加工算法為基礎(chǔ)，研究加工過程的量化控制與預(yù)測等關(guān)鍵技術(shù)問題，實現(xiàn)宏觀尺度的納米級精度制造。
研究領(lǐng)域：
l 原子及近原子尺度制造: ACSM
l 原子選擇刻蝕技術(shù): Atom-selective Etching
l 原子遷移制造技術(shù): Atom-migration Manufacturing
工作經(jīng)歷：
◆ 2022年12月~至今：南方科技大學(xué)，機(jī)械與能源工程系，長聘副教授 (研究員)
◆ 2017年7月~2022年12月：南方科技大學(xué)，機(jī)械與能源工程系，助理教授 (副研究員)
◆ 2016年3月~2017年6月：新加坡制造技術(shù)研究院 (SIMTech)，科學(xué)家
◆ 2013年4月~2016年3月：日本學(xué)術(shù)振興會 (JSPS)，青年研究員
教育經(jīng)歷：
◆ 2013年4月~2016年3月：大阪大學(xué) (日本)，精密科學(xué)與技術(shù)專業(yè)，博士
◆ 2011年4月~2013年3月：大阪大學(xué) (日本)，精密科學(xué)與技術(shù)專業(yè)，碩士
◆ 2006年9月~2010年6月：華中科技大學(xué)，機(jī)械設(shè)計制造及其自動化專業(yè)，學(xué)士
所獲榮譽(yù)：
◆ 2021年：入選“全球排名前2%頂尖科學(xué)家”榜單
◆ 2021年：期刊Nanomanufacturing and Metrology (NMME), Outstanding Contribution Award
◆ 2020年：入選“全球排名前2%頂尖科學(xué)家”榜單
◆ 2016年：國際光學(xué)工程學(xué)會 (SPIE)，Rudolf Kingslake Award
◆ 2015年：中國留學(xué)基金委，國家優(yōu)秀海外留學(xué)生獎
◆ 2014年：日本機(jī)床技術(shù)振興協(xié)會，機(jī)床技術(shù)振興獎
社會職務(wù)
青年編委：
◆ International Journal of Extreme Manufacturing (IJEM, JCR Q1, IF=10.04)
◆ 美國機(jī)械工程師學(xué)會 (ASME)
◆ 日本精密工學(xué)會 (JSPE)
◆ 國際納米制造學(xué)會(ISNM)
◆ 國際工程與技術(shù)科學(xué)院(AET)
代表性學(xué)術(shù)論文：
(1) Z. Fang, Y. Zhang, R. Li, Y. Liang and H. Deng*: An efficient approach for atomic-scale polishing of single-crystal silicon via plasma-based atom-selective etching, International Journal of Machine Tools and Manufacture 159 (2020) 103649. (封面論文)
(2) R. Yi, Y. Zhang, X. Zhang, F. Fang and H. Deng*: A Generic Approach of Polishing Metals via Isotropic Electrochemical Etching, International Journal of Machine Tools and Manufacture 150 (2020) 103517.
(3) H. Deng, K. Endo and K. Yamamura: Damage-free finishing of CVD-SiC by a combination of dry plasma etching and plasma-assisted polishing, International Journal of Machine Tools and Manufacture 155 (2017) 38-46.
(4) H. Deng, K. Endo and K. Yamamura*: Plasma-assisted polishing of gallium nitride to obtain a pit-free and atomically flat surface, CIRP Annals-Manufacturing Technology 64 (2015) 531-534.
(5) H. Deng, K. Monna, T. Tabata, K. Endo and K. Yamamura*: Optimization of the plasma oxidation and abrasive polishing processes in plasma-assisted polishing for high effective planarization of 4H-SiC, CIRP Annals-Manufacturing Technology 63 (2014) 529-532.
其他信息：
l 更多信息，請訪問APMLab主頁：https://faculty.sustech.edu.cn/dengh/
l 實驗室非常歡迎本科生參觀了解，請聯(lián)系：
[email protected]l 本課題組長期招聘博士后，待遇優(yōu)厚，歡迎郵件聯(lián)系：
[email protected]
